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       超純水是接近高純度的水，即除了氫離子與氧離子，幾乎沒有任何其他電解質存在的水中。
       在制造處理過程后能盡可能將溶在水中或在水中散播的各種雜質除去，包含像是有機物、細菌、塵埃、氧化物等任何物質。
       根據半導體產業的發展，隨著制程的開發，使得晶圓線路更加細致，所使用的清洗用水，也需要更加提升。
       為了介于以往的純水名稱，故命名為超純水。電阻率約達到18.2MΩ-cm，幾乎不能導電，依據電子行業超純水標準，還有很多其他的指標要求。
       超純水主要使用在晶圓洗凈，將經過蝕刻之晶圓進行洗凈，去除晶圓表面殘留氫氟酸等溶液。經由多重過濾，離子交換，除氣，逆滲透，紫外線，超濾，奈米濾，離子吸附過濾所產生超純水。
       超純水是為了研制超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水 。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以采用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。